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EDI純水設備幾乎不出水了是什么原因

2025-01-08 來源:原創 瀏覽量:165
  EDI純水設備幾乎不出水可能由多種原因引起,以下是一些主要的原因及相應的解決措施。

  原因分析

  進水余氯超標:

  進水余氯過高會氧化離子交換樹脂和離子交換膜,導致樹脂破碎,進而堵塞通道,使產水量下降。

  模塊長期未清洗保養:

  EDI模塊長期未進行清洗和保養,會導致膜片和通道結垢,進出水壓差增加,從而影響產水水質和水量。

  缺水運行:

  設備在缺水狀態下運行,會導致模塊干燒變形,進而影響產水能力。

  進水電導率過高:

  原水電導率上升超過一定范圍后,膜塊的工作區間會往下移動,乃至再生區消失,工作區穿透,膜塊內的填充樹脂大部分呈飽和失效狀態,從而影響產水量。

  進水pH值不當:

  進水pH值過低或過高都可能影響EDI設備的正常運行。pH值過低可能由于CO2的溶解所引起,而pH值過高則可能導致樹脂和膜的性能降低。

  系統壓力變化:

  壓力的變化是判斷EDI系統膜塊是否被污染的有效手段。當濃水進出口壓力差變大時,可能伴隨濃水管路堵塞,此時需要清潔管路。

  污染物影響:

  硬度(鈣、鎂)、有機物、固體懸浮物、變價金屬離子(鐵、錳)、氧化劑(氯、臭氧)和二氧化碳(CO2)以及細菌等污染物都可能影響EDI設備的正常運行。

  運行條件不當:

  EDI模塊長期在大電流、低于額定流量情況下運行,可能導致極板側積聚的熱量得不到有效散發,造成EDI接近兩極的膜片和隔網先發熱變形,進而影響水質和水量。


  解決措施

  檢查進水水質:

  定期監測進水水質的電導率、余氯含量和pH值等指標,確保進水水質符合設備要求。

  清洗保養模塊:

  定期對EDI模塊進行清洗和保養,以去除膜片和通道上的結垢和污染物。

  避免缺水運行:

  確保設備在充足的水量下運行,避免干燒和變形。

  調整進水電導率:

  通過預處理措施降低進水電導率,以確保EDI設備的正常運行。

  控制進水pH值:

  安裝脫碳裝置等預處理設備,控制進水中的CO2含量,并調節進水pH值在適宜范圍內。

  監測系統壓力:

  定期監測EDI系統的壓力變化,及時發現并處理濃水管路堵塞等問題。

  去除污染物:

  在預處理階段去除硬度、有機物、固體懸浮物等污染物,以減少對EDI設備的影響。

  優化運行條件:

  調整設備的運行電流和流量等參數,確保設備在適宜的條件下運行。

  綜上所述,EDI純水設備幾乎不出水可能由多種原因引起,需要根據具體情況進行排查和解決。在正常使用過程中,應注意進水水質的保障、設備運行的保證以及定期維護和保養等方面的工作。
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